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以銅 (Cu) 濺射靶材為例.在制備銅濺射靶時(shí),不可避免地會(huì)引入硫、鉛等其他雜質(zhì)含量.微量的硫可以防止熱加工時(shí)晶粒尺寸增大或產(chǎn)生微裂紋;但當(dāng)硫元素含量高于18 ppm時(shí),會(huì)出現(xiàn)微裂紋;隨著兩種雜質(zhì)元素(硫和鉛)，銅靶材鍍膜濺射儀KT-Z1650PVD為臺(tái)式磁控濺射鍍膜機(jī)，儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動(dòng)控制，設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué)，所得結(jié)果一致，可重復(fù)性高。

等離子刻蝕機(jī)清洗機(jī)用于表面清洗,活化,刻蝕電源屬于150W 13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)等。，與動(dòng)輒十幾萬(wàn)美元的大型產(chǎn)品相比小型等離子清洗機(jī)具有成本低廉、操作靈活的特點(diǎn)。

Plasma清洗機(jī)，觸摸屏控制，該清洗機(jī)內(nèi)置高純石英倉(cāng)體，有效容積為500ml，結(jié)構(gòu)為國(guó)際上的通用的真空石英法蘭密封結(jié)構(gòu)。

等離子表面處理儀廠家直供作為一種微觀固體表面的處理設(shè)設(shè)備，是一種全新的表面處理方案。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔等目的。

等離子清洗機(jī)鄭州科探儀器KT-S2DQX,用于表面清洗,活化,刻蝕電源屬于150W 13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)等