鄭科探小型蒸鍍儀

-熱蒸發源：電阻式熱蒸發舟，交流電源；
- 腔體：不銹鋼或石英腔體可供客戶選擇；
- 泵：前級干泵，分子泵；
- Load Lock樣品傳輸腔室：手動或自動傳輸，高真空，支持多種樣品襯底(選配)；
- 工藝控制：PC/PLC機制的自動控制、數據處理、工藝記憶儲存；

- 襯底固定：單襯底固定，客戶化襯底固定方式；

-       襯底夾具：加熱，冷卻，偏置，旋轉等；

-       保護樣品：配有樣品擋板，可手動或自動開/關擋板，達到及時遮擋樣品效果；

以下為蒸發鍍膜設備的示意圖：

以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖

  原樣品沒有鍍膜                        115A 100秒 機械泵

115A 100秒 分子泵抽12分鐘      115A 120秒 分子泵抽20分鐘

真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色

鄭科探小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD技術資料

技術支持&服務：

1. 技術支持：在合同簽訂之前，我們的專業工程師會在充分了解客戶需求的前提下，為客戶做出*的選型和方案設計，使客戶充分了解并理解產品技術指標、性能用途、使用場合、安全注意事項等，以幫助客戶做出正確的選擇。

2. 安裝與培訓：在產品使用前，我們會派專業工程師為您提供現場技術支持、培訓及演示服務。

3. 產品質保：我們對產品提供12個月的質保期，在質保期內發生設備或配件損壞由公司負責賠償或免費維修。（耗材和易損件除外）

4. 終身維護：我們對提供的產品提供終身服務，對于超過質保期限的維修、維護僅收取材料費，免除一切人工費用。